SMEE新一代光刻机模型亮相进博会
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SMEE新一代光刻机模型亮相进博会
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报道摘要
上海微电子装备集团在进博会展示自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800模型,整机核心系统实现全链条自主可控,关键零部件国产化率突破90%,已实现定型与规模化量产。
摘自 华尔街见闻
最新进展11月8日 16:14
上海微电子新一代光刻机模型亮相进博会报道时间线
沿着报道,了解事件的不同侧面。
11月8日
- 华尔街见闻精选上海微电子新一代光刻机模型亮相进博会
上海微电子装备集团在进博会展示自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800模型,整机核心系统实现全链条自主可控,关键零部件国产化率突破90%,已实现定型与规模化量产。
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